•光學薄膜是指在光學元件上或獨立基板上鍍上一層或多層之介電質膜或金屬膜或介電質膜與金屬膜組成之膜堆來改變光波傳遞的特性。因層薄膜厚度一般在數十至數千埃（埃=10-7mm），由於要將一般塊狀材料，製作成如此薄的型態，必須使用特殊的方法。
光學鍍膜的流程:
1.基材以超音波洗淨機洗淨，洗淨後排上夾具，送入鍍膜機，開始加熱及抽真空。
2.達到高真空後，開始鍍膜。
3.鍍膜時，以電子槍或電阻式加熱，將鍍膜藥材變成離子態，由於鍍膜機內為高真空狀態，離子態的鍍膜藥材可順利抵達基材。
4.鍍膜時間則視層數及程式不同而有長短，數十分鐘至幾小時不等。
5.鍍膜完畢後，待溫度冷卻後取出。
鍍膜後的玻璃，由於具有干涉光線及過濾某些波長的功用，一般稱之為光學干涉濾光片。
依照濾光片的各項特性，可再細分為抗反射(AR Coating)或增透膜、紅外截止(IR Cut)或熱鏡(Hot Mirror)、紅外穿透(IR Pass)或冷鏡(Cold Mirror)、紫外截止(UV Cut)、 窄波(Band Pass)或窄帶濾光片、長波通(Long Pass)、短波通(Short Pass)濾光片等等。
多層膜濾光片，由於層數多在18~58層
鍍膜結果需量測光譜或功能測試來看是否符合所需規格。
針孔是造成不良濾光片的缺點之一。
針孔一般是因為鍍膜前基材未洗淨，或是洗淨後空氣中的落塵附著上去，在鍍膜後，灰塵掉落，使膜層中有一個一個的洞，稱為針孔。
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